AbstractsChemistry

Nanovrstevnaté kompozity

by Soňa Kontárová




Institution: Brno University of Technology
Department:
Year: 0
Keywords: plazmová polymerizace; multivrstvy; tetravinylsilan; tenké vrstvy; ellipsometrie; plasma polymerization; multilayers; tetravinylsilane; thin films; ellipsometry
Record ID: 1097467
Full text PDF: http://hdl.handle.net/11012/15528


Abstract

Tato studie je zaměřena na základní výzkum tenkých vrstev plazmových polymerů a vliv depozičních podmínek na strukturu a vlastnosti jednotlivých vrstev a multivrstev připravených pomocí metody PE CVD. Jednotlivé vrstvy a multivrstvy a-SiC:H byly deponovány na křemíkové substráty z monomeru tetravinylsilanu (TVS) při různých výkonech v kontinuálním a pulzním režimu. Vrstvy byly rozsáhle zkoumány pomocí spektroskopické elipsometrie, nanoindentace, mikroskopie atomárních sil (AFM), rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS), spektroskopie Rutherfordova zpětného rozptylu (RBS), rentgenové reflektivity, Fourierovy transformační infračervené spektroskopie (FTIR) a měření kontaktního úhlu, pro zjištění jejich optických, mechanických a chemických vlastností. Byl zkoumán a prokázán vliv depozičních podmínek na fyzikálně-chemické vlastnosti pp-TVS vrstev. Jednotlivé vrstvy byly v rámci po-depoziční úpravy vystaveny UV záření a byl zkoumán účinek stárnutí a vliv UV záření na jejich fyzikální a chemické vlastnosti. Multivrstevnaté struktury (plazmaticky polymerizované 2-vrstvy a 10-ti-vrstvy) s tloušťkou jednotlivých vrstev od 0,5 µm do 25 nm byly úspěšně deponovány a charakterizovány pomocí elipsometrické spektroskopie. Na základě získaných poznatků je možné připravit materiály s vlastnostmi upravenými podle požadavků pro využití v nanokompozitních aplikacích a optických zařízeních.; This study is aimed at the basic research of plasma polymer films and an influence of deposition conditions on structure and properties of single-layer films and multilayers prepared by PE CVD method. Single layer and multilayered a-SiC:H films were deposited on silicon wafers from tetravinylsilane monomer (TVS) at different powers in continual and pulse regimes. The films were investigated extensively by spectroscopic ellipsometry, nanoindentation, atomic force microscopy (AFM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS), X-ray reflectivity, Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) and contact angle measurements to observe their optical, mechanical and chemical properties. The influence of the deposition condition on the physicochemical properties of pp-TVS films was revealed and quantified. Single layers were also exposed to UV light as post-deposition treatment to investigate aging effects and the influence of UV irradiation on their physical and chemical properties. Multilayered structures (bi-layered and 10-layered plasma polymerized films) of individual layer thickness down to 25 nm were successfully deposited and characterized by ellipsometric spectroscopy. Materials with tailored properties can be developed for nanocomposite applications and optical devices.